发明名称 非等向蚀刻矽之方法
摘要 本发明提供一种使用包含NH4F及HF的溶液非等向蚀刻矽之方法。
申请公布号 TW200520088 申请公布日期 2005.06.16
申请号 TW093127348 申请日期 2004.09.09
申请人 亿恒科技股份公司;南亚科技股份有限公司 NANYA TECHNOLOGY CORPORATION 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 发明人 腾旺黄;克里斯汀舒普克
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 蔡清福
主权项
地址 德国