| 摘要 |
本发明系，含有(A)基底树脂成分及(B)酸产生剂成分之正型光阻组成物，(A)成分系含有，含有酸解离性溶解抑制基，且含有脂肪族环式基之(α–低级烷基)丙烯酸酯所衍生之构成单元(a–1)，含有γ–丁内酯基之(α–低级烷基)丙烯酸酯所衍生之构成单元(a–2)及含有含羟基脂肪族多环式烃基之(α–低级烷基)丙烯酸酯所衍生之构成单元(a–3)，之共聚物，该共聚物之Tg在100～170℃之范围之正型光阻组成物；及使增强化学性型正型光阻组成物涂布于基板上，设置光阻膜，使该光阻膜选择性曝光，曝光后加热(PEB)，进行硷显影之微影术处理所致光阻图型形成方法，由此此微影术处理所形成之线与间隙图型为最大之PEB温度±2℃之范围内之温度成为上述微影术处理中之PEB温度者。093136169-p01.bmp |
