聚合物、光阻组成物及形成图案之方法

摘要

本发明系关于一种包含式(1)部份结构的重复单元之聚合物，其中R^1是单键或伸烷基或氟伸烷基，R^2及R^3是H或烷基或氟烷基，至少一个R^2及R^3包含至少一个氟原子，其系作为基质树脂用于调制光阻组成物，其优点包括对波长高至200奈米的辐射具有高透明性、基板黏着性、显影剂亲和性及耐乾蚀刻性。093131850-p01.bmp