斜向蚀刻

摘要

一种经由基板上的遮罩来蚀刻在蚀刻层中的形体特征之方法。将基板放置在处理室内。将蚀刻电浆提供给处理室，其中，蚀刻电浆开始蚀刻。以蚀刻电浆来蚀刻蚀刻层中的形体特征。在蚀刻形体特征以使电浆参数最佳化的期间，随着改变蚀刻深度来斜向设定至少一蚀刻电浆参数，并以经斜向设定之电浆来蚀刻形体特征，直到使形体特征蚀刻到形体特征深度为止。