发明名称 电化学处理微特征工件的腔室、系统和方法
摘要 用于电化学处理微特征工件的腔室、系统和方法在此处被揭露。在一实施例,一种电化学沈积腔室,其包括一处理单元,该处理单元具有一第一流动系统,该第一流动系统被构型,以于将一第一处理流体的流动输送到一微特征工件。该腔室更包括一电极单元,其具有一电极和一第二流动系统,该第二流动系统被构型,以于将一第二处理流体的流动输送到至少靠近该电极。该腔体更包括一非多孔性栅栏(nonporous barrier),该非多孔性栅栏位于该处理单元和该电极单元之间,用来分离该第一和第二处理流体。该非多孔性栅栏被构型,以让阳离子和阴离子经由该栅栏流通于该第一和第二处理流体之间。
申请公布号 TW200520289 申请公布日期 2005.06.16
申请号 TW093116099 申请日期 2004.06.04
申请人 薛米屠尔公司 发明人 凯尔M 汉森;约翰 寇基
分类号 H01M4/00 主分类号 H01M4/00
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 美国