使用相容浸渍媒体浸渍微影方法

摘要

一种使用具有发射曝光图案(24)之透镜(32)之微影系统(10)制造装置之方法。相容浸渍媒体(26)可位在光敏抗蚀(光阻)层(34)与透镜之间。光阻层(其可设置在晶圆上)与透镜可与相容浸渍媒体密近接触。然后以曝光图案穿透相容浸渍媒体而使光阻层曝光。