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发明名称
非挥发性半导体记忆装置
摘要
一种非挥发性半导体记忆装置,在抹除记忆器块之资料时,并用动作(S3),对记忆器块一起施加抹除脉波;和动作(S6),对记忆器块之一部份之限定区域,一起施加抹除脉波。因此,当与先前技术比较时,可以减少对通过验证之记忆单元过度施加之抹除脉波数,结果可以减少成为过度抹除恢复写入(S9)之对象之记忆单元数,可以缩短总计之块抹除时间。
申请公布号
TW200519951
申请公布日期
2005.06.16
申请号
TW093125480
申请日期
2004.08.26
申请人
瑞萨科技股份有限公司;瑞萨电子元件设计股份有限公司
发明人
友枝光弘;中村稔
分类号
G11C16/04
主分类号
G11C16/04
代理机构
代理人
赖经臣
主权项
地址
日本
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