| 摘要 |
提供一种投影曝光装置，在以所定偏光(optical polarization)状态之照明光加以照明罩幕(mask)之际，可使光量损失减少。具有照明光学系统ILS与投影光学系统PL。其中，照明光学系统ILS，系以照明光IL加以照射光栅(reticle)R，投影光学系统PL，系将光栅R之图案像投影于晶圆(wafer)W上。在照明光学系统ILS，从曝光光源1以直线偏光状态所射出之照明光IL，系通过进相轴之方向相异的第一及第二双折射构件12、13，大略在特定环带状之领域，在以光轴为中心之圆周方向实质上成为直线偏光之偏光状态后，经复眼透镜14等以环带照明条件加以照明光栅R。 |
