| 发明名称 |
Intergrierte Fotoempfindliche Strukturen und Passivierungsverfahren |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10393435(D2) |
申请公布日期 |
2005.06.16 |
| 申请号 |
DE2003193435 |
申请日期 |
2003.08.29 |
| 申请人 |
X-FAB SEMICONDUCTOR FOUNDRIES AG |
发明人 |
BACH, KONRAD |
| 分类号 |
H01L27/146;H01L31/00;H01L31/0216;(IPC1-7):H01L31/00 |
主分类号 |
H01L27/146 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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