检测图案缺陷过程的方法

摘要

揭示了一种检测图案缺陷过程的方法，其中，形成一层，从而在基片上产生信噪比。本发明还提供了一种检测图案缺陷过程的方法。首先，提供基片。接着，在基片上形成器件剖面，其中，器件剖面包含缺陷部分。随后，在器件剖面和基片上形成一层，其中，层具有不同于器件剖面蚀刻选择性的蚀刻选择性。下一步，除去一部分层使之在器件剖面上截断，并产生反向掩模。随后，使用反向掩模作为掩模在基片上蚀刻器件剖面。最后，除去反向掩模。

主权项

1.一种检测图案缺陷过程的方法，其特征在于，所述的方法包括；提供基片；在所述基片上形成器件，其中，所述器件包含缺陷部分；在所述的器件和所述的基片上形成一层，其中，所述的层具有不同于所述器件蚀刻选择性的蚀刻选择性；除去一部分停留在所述器件上的所述层，并形成反向掩模；使用所述反向掩模作为掩模以蚀刻位于所述基片上的所述器件；以及除去所述反向掩模，而留下位于所述基片上所述缺陷部分。