发明名称 |
用于半导体处理设备中的抗卤素的阳极氧化铝 |
摘要 |
我们发现了一种铝合金部件表面的微粒夹杂物的形成,此夹杂物干扰从合金表面到此表面上的氧化铝保护层的平滑过渡,氧化铝保护层可以通过以下方法控制:保持可变杂质及其中的化合物的成分;在低于330摄氏度的温度下热处理此铝合金;和通过采用一个特定的电解工艺过程来形成氧化铝保护膜。当把这些因素考虑进去之后,可以获得一种改进的氧化铝保护膜。 |
申请公布号 |
CN1628181A |
申请公布日期 |
2005.06.15 |
申请号 |
CN03803381.X |
申请日期 |
2003.02.04 |
申请人 |
应用材料有限公司 |
发明人 |
Y·林;B·T·韦斯特;H·王;S·J·吴;J·Y·孙;C·C·斯托;S·撒奇 |
分类号 |
C22C21/06;C25D11/04;C25D11/08 |
主分类号 |
C22C21/06 |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
赵蓉民 |
主权项 |
1.一种高纯度铝合金,其具有在所述合金中存在的可控微粒尺寸和分布的可变杂质,所述高纯度铝合金被用于半导体处理设备的制造,在此设备中,暴露于腐蚀性的环境中的铝合金会退化,这种铝合金也不显示出可控制的可变杂质微粒尺寸和分布;所述高纯度铝合金含有的可变杂质微粒是在一个特定的限制内,以便至少95%的微粒的尺寸是5微米或更小,不多于5%的所述微粒在20微米到5微米的范围内,和不多于0.2%的所述微粒在50微米到20微米的范围内。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |