| 主权项 |
1.一种微细图案之形成方法,其特征为包含:具有光阻图案的基板之亲水化处理过程,于该基板上涂布图案微细化用被覆形成剂之过程,以热处理使该图案微细化用被覆形成剂热收缩,利用其热收缩作用使光阻图案间的间隔缩小之过程,以及实质上完全去除上述图案微细化用被覆形成剂之过程。2.如申请专利范围第1项的微细图案之形成方法,其中以亲水性溶剂涂布于具有光阻图案之基板上进行亲水化处理。3.如申请专利范围第2项的微细图案之形成方法,其中亲水性溶剂系选自纯水、水溶性界面活性剂的水溶液、醇的水溶液之一种或二种以上。4.如申请专利范围第3项的微细图案之形成方法,其中亲水性溶剂系纯水。5.如申请专利范围第1项的微细图案之形成方法,其中图案微细化用被覆形成剂含有水溶性聚合物。6.如申请专利范围第5项的微细图案之形成方法,其中水溶性聚合物选自脂烯二醇系聚合物、纤维素系衍生物、乙烯系聚合物、压克力系聚合物、尿素系聚合物、环氧系聚合物、三聚氰胺系聚合物以及醯胺系聚合物之至少一种。7.如申请专利范围第1项的微细图案之形成方法,其中图案微细化用被覆形成剂系固体成分浓度3至50质量%之水溶液。8.如申请专利范围第1项的微细图案之形成方法,其中热处理系于不致使基板上之光阻图案起热流动的温度加热为之。 |
