| 发明名称 |
A METHOD FOR FORMING A INTER-LAYER DIELECTRIC OF A SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR20050054027(A) |
申请公布日期 |
2005.06.10 |
| 申请号 |
KR20030087302 |
申请日期 |
2003.12.03 |
| 申请人 |
MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD. |
发明人 |
CHA, HAN SEOB |
| 分类号 |
H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
