发明名称 Mustererzeugungsverfahren unter Verwendung einer inorganischen Antireflexionsschicht
摘要
申请公布号 DE60103398(T2) 申请公布日期 2005.06.09
申请号 DE20016003398T 申请日期 2001.06.20
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK 发明人 LEE, GILL YONG;HALLE, SCOTT D.;BEINTNER, JOCHEN
分类号 G03F7/09;H01L21/027;H01L21/311;H01L21/314;H01L21/8242;(IPC1-7):H01L21/027;H01L21/824 主分类号 G03F7/09
代理机构 代理人
主权项
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