晶片制备系统、晶片制备方法以及晶片洗涤和干燥装置

摘要

提供了用于晶片制备的晶片制备系统和方法。晶片制备系统包括一洗涤单元和一垂直设置于洗涤单元上方的干燥单元。洗涤单元接收一晶片以进行机械性洗涤清理，在机械性洗涤清洗后干燥单元从洗涤单元接收该晶片。在晶片为垂直取向的情况下完成清洗和干燥。一连接到起重杆的边缘支座经由洗涤单元把晶片提升到干燥单元。晶片制备方法包括在一洗涤机中接收一晶片，从洗涤机内部把晶片提升到垂直布置在洗涤机上方的干燥机。

主权项

1、一种晶片制备系统(100)，包括：一洗涤单元(102)，接收一晶片(110)以进行机械性洗涤清理；以及一干燥单元(104)，垂直设置于该洗涤单元的上方，并在机械性洗涤清理之后接收以及干燥该晶片，其中该洗涤单元包括一第一狭缝开口(102g)以及一第二狭缝开口(102c)，该第一狭缝开口用以接收该晶片，而该第二狭缝开口不同于该第一狭缝开口且通至该干燥单元。