| 发明名称 | 在存在等离子体情形时在真空环境中的加热 | ||
| 摘要 | 一种在存在等离子体情形时的真空环境中进行加热的方法，包括以下步骤：a)在真空室(10)中设置红外辐射装置(16)；b)对红外辐射装置(16)提供第一电导体(18)；c)从红外辐射装置(16)引出第二电导体(20)；d)在所述红外辐射装置(16)上施加电压；e)防止第一导体(18)和第二导体(20)具有高于+55伏的电压。其优点在于避免电弧放电。 | ||
| 申请公布号 | CN1625921A | 申请公布日期 | 2005.06.08 |
| 申请号 | CN03802961.8 | 申请日期 | 2003.01.29 |
| 申请人 | 贝克特股份有限公司 | 发明人 | 威莫尔特·德保斯掣尔;朱尔金·德弩尔;盖伊·国彬;巴特·普尔松;卓奇姆·多赫尔 |
| 分类号 | H05B3/00;H05B7/00;H01L21/00;C23C16/48 | 主分类号 | H05B3/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 秦晨 |
| 主权项 | 1、一种在存在等离子体情形下的真空环境中进行加热的方法，所述方法包括以下步骤：a)在真空室中提供红外辐射装置；b)提供至所述红外辐射装置的第一电导体；c)提供来自所述红外辐射装置的第二电导体；d)将电压施加在所述红外辐射装置上；e)防止所述第一导体和所述第二导体具有高于+55伏的电压。 | ||
| 地址 | 比利时茨维夫格姆 | ||