发明名称 基板清洗系统
摘要 一种基板清洗系统在以可密封的方式形成的装置主体1的内部,设置有装卸室A,该装卸室由清洗处理前的晶片W进行送入等待的基板送入部Aa和清洗处理后的晶片进行送出等待的基板送出部Ab构成;处理室C,该处理室C具有逐张地对晶片W进行清洗处理的两个单张式的基板清洗腔10;机器人室B,该机器人室B具有在上述两个室A,C之间逐张地输送晶片W的输送机器人70,这些室A,B,C按照具有必要的最小程度的开口面积的隔壁2,3,分隔形成。
申请公布号 CN1205652C 申请公布日期 2005.06.08
申请号 CN01118479.5 申请日期 2001.06.01
申请人 S.E.S.株式会社 发明人 大藏领一;小野祐司;山口弘;高石美雪;上川内秀夫
分类号 H01L21/304;B08B3/00 主分类号 H01L21/304
代理机构 北京三幸商标专利事务所 代理人 刘激扬
主权项 1.一种基板清洗系统,其特征在于在以可密封的方式构成的装置主体内部,设置有装卸室,该装卸室由多个清洗处理前的基板按照叠置的方式实现送入等待的基板送入部和多个清洗处理后的基板按照叠置的方式实现送出等待的基板送出部构成;处理室,处理室具有通过多种清洗液逐张地对基板进行清洗处理的至少一个单张式的基板清洗腔;机器人室,该机器人室具有在上述处理室与装卸室之间,逐张地输送基板的输送机器人,这些室通过具有必要的最小程度的开口面积的隔壁,分隔形成;在上述装置主体的前后两侧,分别设置上述装卸室和处理室,并且在该装卸室与处理室之间,设置上述机器人室;在上述装卸室中,开设有可朝向装置主体的外部的操作空间开放的开闭口;上述装卸室按照下述方式构成,叠置于上述基板送入部和基板送出部中的基板沿上下方式以规定的排列间距,按照水平状态排列,并且在上述装卸室内部流动的清洁空气从上述基板送出部朝向基板送入部水平地流动。
地址 日本国东京都