发明名称 |
具有埋置式结构的基片、包括该基片的显示器件、制造该基片的方法和制造显示器件的方法 |
摘要 |
制造具有埋置式结构的基片的方法,包括以下步骤:制备具有主表面的玻璃基片;通过湿法蚀刻工艺在玻璃基片的主表面制成凹槽;和在玻璃基片的主表面沉积第1材料,并用其填充凹槽,制成具有与主表面基本齐平的表面的埋置式结构,制成凹槽的步骤包括:使用包含氢氟酸、氟化铵、和盐酸或草酸的蚀刻剂进行湿法蚀刻工艺。 |
申请公布号 |
CN1205504C |
申请公布日期 |
2005.06.08 |
申请号 |
CN02142050.5 |
申请日期 |
2002.08.23 |
申请人 |
夏普株式会社;大见忠弘 |
发明人 |
小林和树;藤野公明;迫野郁夫;大见忠弘;须川成利;森本明大 |
分类号 |
G02F1/136;G02B6/12;C03C15/00;H01L21/3205;H01L29/786 |
主分类号 |
G02F1/136 |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
陈剑华 |
主权项 |
1.制造具有埋置式结构的基片的方法,该方法包括以下步骤:(a)制备具有主表面的玻璃基片;(b)通过湿法蚀刻工艺在玻璃基片的主表面上制成凹槽,所述凹槽满足d≥r的关系,式中,d为凹槽的深度,r为凹槽侧壁的曲率半径;以及,(c)在玻璃基片的主表面沉积第1材料,并用其填充凹槽,制成具有与主表面基本齐平的表面的埋置式结构,其中,步骤(b)包括:用包括氢氟酸、氟化铵和盐酸或草酸在内的蚀刻剂进行湿法蚀刻。 |
地址 |
日本大阪府 |