发明名称 |
使用离子注入过的晶片监测低温急速热退火工艺 |
摘要 |
本发明提供一种制造集成电路器件的方法,具体地说涉及使用离子注入过的晶片监测低温急速热退火工艺。这个方法包括提供一个含有硅材料的监测晶片。此方法将一些粒子注入进硅材料的一定深度。这些粒子在硅材料中激发能被降低。将含有这些注入粒子的监测晶片置入急速热退火的工艺中处理。也就是在第一温度下的第一状态进行急速的热退火的工艺过程。第一温度是在一个小于650℃的被定义为低温区的区域内。方法然后将晶片取出测量其平面电阻并在跨晶片容许误差小于2%范围测定第一温度。假如第一温度是在规定温度的容许误差范围内,则将一些产品用晶片进行急速热退火。 |
申请公布号 |
CN1624884A |
申请公布日期 |
2005.06.08 |
申请号 |
CN200310109111.8 |
申请日期 |
2003.12.05 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
吴金刚;王粒子;黄晋德;刘玉红 |
分类号 |
H01L21/324;H01L21/477;C30B33/02 |
主分类号 |
H01L21/324 |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
陈亮 |
主权项 |
1、一个制造集成电路器件的方法,方法包括:提供一个监测硅片,监测硅片含有硅材料,引入一些粒子到硅材料中一定的深度,这些粒子可降低激发能;将引入粒子的监测晶片置于急速热退火工艺中;在第一个温度状态,也就是一个定义为小于650℃低温区域,进行急速热退火;取出监测硅片;测量监测硅片的平面电阻;在硅片全表面小于2%容许误差范围内测定第一个温度;如果这第一温度是在规定的温度容许误差范围内,则将一些产品用的硅片进行急速热退火。 |
地址 |
201203上海市张江路18号 |