| 发明名称 | 清洗方法、清洗装置及电光学装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供可以容易地除去附着在低分子有机EL装置的蒸镀掩模上的有机物的清洗方法及清洗装置。附着在低分子有机EL装置的蒸镀掩模上的有机物的清洗装置(1)，具有将蒸镀掩模(140)用吡咯烷酮的衍生物处理的第1载物台(10)、对蒸镀掩模(140)进行水漂洗处理的第2载物台(20)、对蒸镀掩模(140)进行流水漂洗处理的第3载物台(30)、将蒸镀掩模(140)用乙醇处理的第4载物台(40)、使蒸镀掩模(140)干燥的第5载物台(50)、向各载物台依次搬送蒸镀掩模(140)的搬送机构(5)。作为吡咯烷酮的衍生物，优选采用N－甲基－2－吡咯烷酮。 | ||
| 申请公布号 | CN1623688A | 申请公布日期 | 2005.06.08 |
| 申请号 | CN200410100021.7 | 申请日期 | 2004.11.30 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 细田登志子;四谷真一 |
| 分类号 | B08B3/08;B08B3/12;C23C14/04;C23C14/24 | 主分类号 | B08B3/08 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种清洗方法，其特征是，使用吡咯烷酮的衍生物来清洗附着在电光学装置的制造装置上的有机物。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||