发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING AN ISOLATION PATTERN IN AN INTERLAYER INSULATING LAYER BETWEEN CAPACITOR CONTACT PLUGS AND METHODS OF FABRICATING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20050053286(A) 申请公布日期 2005.06.08
申请号 KR20030086965 申请日期 2003.12.02
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 HONG, SANG WOO
分类号 H01L27/108;H01L21/02;H01L21/8242;(IPC1-7):H01L27/108 主分类号 H01L27/108
代理机构 代理人
主权项
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