发明名称 |
SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING AN ISOLATION PATTERN IN AN INTERLAYER INSULATING LAYER BETWEEN CAPACITOR CONTACT PLUGS AND METHODS OF FABRICATING THE SAME |
摘要 |
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申请公布号 |
KR20050053286(A) |
申请公布日期 |
2005.06.08 |
申请号 |
KR20030086965 |
申请日期 |
2003.12.02 |
申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
HONG, SANG WOO |
分类号 |
H01L27/108;H01L21/02;H01L21/8242;(IPC1-7):H01L27/108 |
主分类号 |
H01L27/108 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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