发明名称 Halbleiterdotierung
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von dotierten organischen Halbleitermaterialien mit erhöhter Ladungsträgerdichte und effektiver Ladungsträgerbeweglichkeit durch Dotierung mit einem Dotanden, wobei der Dotand im wesentlichen durch Elektrokristallisation in einem ersten Schritt hergestellt wird, der Dotand ausgewählt ist aus einer Gruppe organischer Verbindungen mit einem geringen Oxidationspotential, und wobei ein organisches Halbleitermaterial mit dem Dotanden in einem zweiten Schritt dotiert wird. DOLLAR A Ferner betrifft die Erfindung dotierte organische Halbleitermaterialien mit erhöhter Ladungsträgerdichte und effektiver Ladungsträgerbeweglichkeit, hergestellt durch das vorbezeichnete Verfahren. DOLLAR A Ferner betrifft die Erfindung eine organische Diode, umfassend dotierte organische Halbleitermaterialien, welche nach dem vorbezeichneten Verfahren hergestellt wurden.
申请公布号 DE10347856(A1) 申请公布日期 2005.06.02
申请号 DE2003147856 申请日期 2003.10.10
申请人 TECHNISCHE UNIVERSITAET DRESDEN 发明人 WERNER, ANSGAR;PFEIFFER, MARTIN;HARADA, KENTARO;LEO, KARL
分类号 H01L51/00;H01L51/30;H01L51/40;(IPC1-7):H01L51/40;C07F11/00 主分类号 H01L51/00
代理机构 代理人
主权项
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