用于基体电路制造之光阻剥离及/或光罩清洁之处理程序

摘要

本发明揭示一种用于积体电路制造的光罩清洁及／或剥离光阻的方法及系统，其包括将一硫酸与臭氧之混合物(SOM)引入一光罩之表面，同时施加超声波能量的一处理及构件。本发明亦包括包含将臭氧化去离子水及／或一低温稀释水溶液(dAPM)引入光罩之该表面，同时施加超声波能量之一处理及构件的方法及系统。该处理及装置亦从光罩表面移除后电浆灰化残余物及其他污染物。