发明名称 栅极装置
摘要 本案为一种栅极装置,系设于溅镀系统之溅镀枪(Sputter)与被镀物之间,其特征在于栅极装置系电连接至电压源而具有电压准位,且允许带电离子通过,并藉以调整带电离子撞击被镀物之速度。
申请公布号 TW200518199 申请公布日期 2005.06.01
申请号 TW092132727 申请日期 2003.11.21
申请人 聚昌科技股份有限公司 发明人 范志文;胡正中
分类号 H01L21/203 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹北市沿河街123号