真空处理设备及气相沈积设备

摘要

本发明系关于一种对于减压处理设备的各构件，施以可减少有机物成分释放的处理。此系由于发明人发现在构成减压处理设备的坩锅、垫圈等各构件中会释放出有机物成分，而且由于该有机物成分而导致元件被污染。依本发明，例如坩锅可由相对于气相沉积材料而言触媒特性较低的材料形成；而垫圈则使用进行过有机物之减少洗析处理之垫圈，或是有机物较少的材料。