发明名称 辐射刻蚀设备用之吸嘴
摘要 一种辐射刻蚀设备用之吸嘴,其系应用于制造有机发光面板的辐射刻蚀设备中,且包括一辐射光束(radiationbeam)通道、以及至少一残渣(debris)通道。辐射光束通道系贯穿吸嘴,并具有一辐射光束出口,而残渣通道系与辐射光束通道独立而设,并具有至少一邻设于辐射光束出口之残渣吸入口。
申请公布号 TW200517207 申请公布日期 2005.06.01
申请号 TW092132844 申请日期 2003.11.21
申请人 铼宝科技股份有限公司 发明人 张毅;叶佩娟;郑同昇;洪政勋
分类号 B23K26/38 主分类号 B23K26/38
代理机构 代理人 刘正格
主权项
地址 新竹县湖口乡新竹工业区光复北路12号