| 摘要 |
本发明系一种重量平均分子量1,000～50,000之高分子化合物，其特征系分别含有一种以上之下述一般式(1)～(4)表示之重复单位，093127487-p01.bmp(式中R^1、R^3、R^4、R^7为分别独立之氢原子或甲基，R^2系酸不安定基，R^5、R^6为分别独立之氢原子或羟基，R^8为具有内酯结构之基)。以本发明之高分子化合物为基质树脂的光阻材料系感应高能量线，感度、解像性、耐蚀刻性优异，因此可用于电子线或远紫外线之微细加工。特别是ArF准分子雷射、KrF准分子雷射之曝光波长之吸收较少，可容易形成微细且与基板垂直之图型。093127487-p01.bmp |
