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发明名称
对辐射敏感而折射率改变的组成物、形成图案之方法及光学材料
摘要
本发明提供对辐射敏感而折射率改变的组成物,其含无机氧化物粒子、可聚合的化合物、对辐射敏感性分解剂及可逃脱的化合物,该对辐射敏感性的分解剂暴露至辐射后分解而形成酸、硷或基团,且此分解产物增加可聚合的化合物之分子量。
申请公布号
TW200517778
申请公布日期
2005.06.01
申请号
TW093118651
申请日期
2004.06.25
申请人
JSR股份有限公司
发明人
花村政晓;西川通则;熊野厚司
分类号
G03F7/004
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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