发明名称 对辐射敏感而折射率改变的组成物、形成图案之方法及光学材料
摘要 本发明提供对辐射敏感而折射率改变的组成物,其含无机氧化物粒子、可聚合的化合物、对辐射敏感性分解剂及可逃脱的化合物,该对辐射敏感性的分解剂暴露至辐射后分解而形成酸、硷或基团,且此分解产物增加可聚合的化合物之分子量。
申请公布号 TW200517778 申请公布日期 2005.06.01
申请号 TW093118651 申请日期 2004.06.25
申请人 JSR股份有限公司 发明人 花村政晓;西川通则;熊野厚司
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本