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发明名称
曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
摘要
由投影光学系统PL射入液体LQ之曝光用光当中,射入光透过部44之曝光用光,以不通过气体中的方式射入并会聚于光学构件41。曝光装置,即使投影光学系统的数值孔径增大亦能接收来自投影光学系统之曝光用光,而能进行各种测量。
申请公布号
TW200518187
申请公布日期
2005.06.01
申请号
TW093129399
申请日期
2004.09.29
申请人
尼康股份有限公司
发明人
西永寿;引间郁雄;中川正弘;萩原恒幸;水野恭志;北尚宪;谷津修;江村望;豊田光纪
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
日本
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