具防止附着污垢之真空腔体装置

摘要

本案为一种具防止附着污垢之真空腔体装置，包含：一制程室；一净化室，系与该制程室相通，该净化室之侧壁系包含一吹气系统，以因应该制程室进行一制程时，在该侧壁产生一气流，使该制程室之游离物无法附着于该侧壁上；一抽气系统，系设于该净化室下方，藉以完全抽出该制程所产生的游离物，并使该真空腔体呈现真空状态。