用于供应动态保护层给镜子之方法及装置

摘要

本发明系关于一种供应一动态保护层给至少一镜子(M)以保护该至少一镜子(M)使其免受离子蚀刻之方法。该方法包括：供应一气态物质至一含有该至少一镜子(M)之腔室(10)，监测该镜子(M)之反射率。基于所监测之镜子(M)反射率，藉由控制该镜子(M)之表面的电位来控制该保护层之厚度。