| 摘要 |
本发明系关于供在基质整体表面上以蒸汽-沈积覆盖均匀薄膜之化学蒸汽沈积单元。该化学蒸汽沈积单元包括与外界绝缘并保持在真空下之反应室、可旋转地安装于反应室中之接受容器(其上放置至少一个基质)、及注射器，其包括独立成形之第一与第二气体通道及用以将个别第一与第二气体注射于接受容器上之第一与第二气体注射管(于分别的出口处与个别气体通道连通)，该注射器独立地注射不同气体。该注射器进一步包括第一与第二气体通道连通之气体注射部，以使第一与第二气体中的载体气体(仅第二气体，其为一种非-反应性载体气体)被注射至接受容器之区域。 |
