氧化铪及氧化铝合金之介电层及其制造方法

摘要

本发明系关于一种氧化铪及氧化铝合金之介电层及其制造方法。此次系利用原子层沈积技术进行介电层之沈积。制造氧化铪及氧化铝合金之介电层的方法包含下列步骤：藉由重复进行原子层沈积技术之第一循环，沈积氧化铪单原子层；藉由重复进行原子层沈积技术之第二循环，沈积氧化铝单原子层；及藉由重复进行包含混合第一与第二循环之第三循环，沈积氧化铪单原子层与氧化铝单原子层之介电层。