| 主权项 |
1.一种以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,系用于高能粒子束对晶圆的照射方法,其系包括有:一真空导管,该真空导管系可提供粒子束之行经路径,其前端有一薄膜系共粒子束穿过,而能保持管内真空,不受冷却气体之干扰;一以上设置于真空导管周围预定处之冷却喷管,该冷却喷管系可供喷射出所需之冷却剂;一移动平台,该移动平台系与上述之真空导管对应,其台面可对真空导管作相对运动;一具光阻涂布之晶圆,该晶圆之晶圆本体系放置于上述之移动平台上,而该晶圆本体系与上述真空导管及冷却喷管之出口对应,且该晶圆本体之一面预定处系层叠有一以上之光阻罩蔽,该光阻罩蔽之厚度系包括有一补偿层、一遮蔽层以及一清洗层。2.如申请专利范围第1项所述之以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,其中,该照射装置系以固定之方式设置于所需之位置处,其置放方向并不限于水平或垂直,可以为任何方向。3.如申请专利范围第1项所述之以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,其中,该粒子束系可为较高能量之质子束或其他较高能量之粒子束。4.如申请专利范围第1项所述之以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,其中,该照射装置、该移动平台及该具光阻涂布之晶圆系设置于一封闭空间内,而使各喷管所喷射出之气体可被回收。5.如申请专利范围第1项所述之以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,其中,该冷却喷管系可以为一高压喷管,所喷之气体可以为液态或气态。6.如申请专利范围第1项所述之以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,其中,该所需之冷却剂系可为散热较佳之氦气或其他散热较佳对晶圆无副作用之气体。7.如申请专利范围第1项所述之以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,其中,该冷却喷管可为一支或数支。8.如申请专利范围第1项所述之以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,其中,该冷却喷管系以错位之方式设置于真空导管周围之预定处,藉以使该喷射出之气体产生一扰流之现象。9.如申请专利范围第1项所述之以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射装置,其中,该移动平台系可作平面移动或可作旋转移动。图式简单说明:第1图,系本创作之剖面结构示意图;第2、3图,系本创作之冷却喷管之设置示意图;第4图,系本创作之光阻罩蔽之剖面示意图;第5图,系习用之机械夹环与静电夹盘示意图;及第6图,系习用之离子布値制程示意图。 |
