| 主权项 |
1.一种清洁刷结构改良,系包括:一座体,其上方开设一凹槽,于凹槽底部开设水道,并在水道内穿设贯穿座体之出水孔;及一垫片,置于上述凹槽上方,并开设一孔洞,使液体经由此孔洞流入凹槽底部之水道;及一盖体,其系具有一进水口,并覆盖于上述之凹槽,使盖体与垫片之间形成一容置空间,并于进水口处装设一进水控制机构藉以控制从进水口进入之液体流向。2.依据申请专利范围第1项所述之清洁刷结构改良,其中座体上布植毛束。3.依据申请专利范围第1项所述之清洁刷结构改良,其中盖体上方开设一填充孔。4.依据申请专利范围第2项所述之清洁刷结构改良,其中由垫片上凸设一软塞将填充孔塞住。5.依据申请专利范围第1项所述之清洁刷结构改良,其中盖体为可透视材质。6.依据申请专利范围第1项所述之清洁刷结构改良,其中盖体藉由螺丝与座体连结。7.依据申请专利范围第1项所述之清洁刷结构改良,其中进水控制机构系具有一第一中空圆柱体,于其上至少开设四孔洞,分别为第一孔洞、第二孔洞、第三孔洞及第四孔洞,其中,第二孔洞与第四孔洞之位置系对应于进水口,而容置空间于对应第一孔洞及第三孔洞处开设孔洞;又,进水控制机构系包括一第一中空圆柱体及一第二中空圆柱体,其中第二中空圆柱体系位于第一中空圆柱体之内侧,且于第二中空圆柱体上开设一孔洞与第二孔洞连接;当将进水控制机构内之第二孔洞对齐进水口时,进水口内的液体将直接通过第二中空圆柱体内侧流至水道;当将进水控制机构内之第四孔洞对齐进水口时,进水口内的液体将通过第一中空圆柱体与第二中空圆柱体之间的间隙,经第一孔洞流入容置空间后从第三孔洞流出进入水道。8.依据申请专利范围第7项所述之清洁刷结构改良,其中第一孔洞、第二孔洞、第三孔洞及第四孔洞外围装设垫圈。9.依据申请专利范围第8项所述之清洁刷结构改良,其中圆柱体顶端凸设一柱体,于转动此柱体时带动圆柱体转动。10.依据申请专利范围第9项所述之清洁刷结构改良,其中圆柱体顶端凸设之柱体与一旋钮卡合。11.依据申请专利范围第1项所述之清洁刷结构改良,其中盖体上方标示图示,使转动进水控制机构时,得以直接转动至定位。图式简单说明:第一图代表依据本创作之一种较佳实施例之外观图,第二图代表本创作之较佳实施例之分解图,第三A图代表进水控制装置之剖面图,第三B图代表进水控制装置之剖面图,第四图代表垫片张开之背面图,第五图代表较佳实施例之剖面图,第六图代表较佳实施例之剖面图,第七图代表较佳实施例之剖面图。 |
