光罩坯片及其制法

摘要

一种光罩坯片的制法，具有一抗蚀剂薄膜形成(涂布)过程，系分配含有一抗蚀剂材料与一溶剂的抗蚀剂溶液于正方形基材上，且转动基材，使所分配的抗蚀剂溶液散布于基材上，及使基材上的抗蚀剂溶液乾燥，以便形成一抗蚀剂薄膜于基材上。当基材在抗蚀剂薄膜形成(涂布)过程中转动时，一排气构件执行排放操作，以造成空气流，其沿着基材的上表面，从基材的中心朝基材的外周缘部分，以致于防止形成在基材的周缘端部分的抗蚀剂溶液的坑洞由于基材的转动而朝基材中心移动。