发明名称 | 应用于平台式扫描仪的防磨擦装置 | ||
摘要 | 本发明涉及一种应用于平台式扫描仪的防磨擦装置,该平台式扫描仪主要包含有一扫描平台、一电路板、一软排线以及一光机模块,该软排线的一端电连接至该电路板上,而另一端电连接至该光机模块,该软排线可随该光机模块的移动而在该扫描平台下方伸展或弯折,而该防磨擦装置主要包含有一可挠主体,设置于该软排线的一侧,随该光机模块的移动而在该扫描平台下方伸展或弯折,该可挠主体的抗弯折强度大于该软排线的抗弯折强度而能与该扫描平台保持距离,进而可压制该软排线而避免与该扫描平台磨擦产生污损。 | ||
申请公布号 | CN1204736C | 申请公布日期 | 2005.06.01 |
申请号 | CN03107268.2 | 申请日期 | 2003.03.19 |
申请人 | 致伸科技股份有限公司 | 发明人 | 陈锡裕;蔡益元;管建国 |
分类号 | H04N1/04 | 主分类号 | H04N1/04 |
代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 潘培坤;楼仙英 |
主权项 | 1、一种防磨擦装置,应用于一平台式扫描仪中,该平台式扫描仪包含有一扫描平台、一电路板、一软排线以及一光机模块,该软排线的一端电连接至该电路板上,而另一端电连接至该光机模块,该软排线可随该光机模块的移动而在该扫描平台下方伸展或弯折,其特征在于,该防磨擦装置包含有一可挠主体,设置于该软排线的一侧,该可挠主体具有呈曲线或皱折的平行剖面线条,而该剖面线条是与该光机模块移动方向呈正交,随该光机模块的移动而在该扫描平台下方伸展或弯折,该可挠主体的抗弯折强度大于该软排线的抗弯折强度,从而能与该扫描平台保持距离,并可压制该软排线而避免与该扫描平台磨擦产生污损。 | ||
地址 | 台湾省台北 |