发明名称 溅射靶、溅射反应器、形成铸锭及形成金属体的方法
摘要 本发明包括一种形成金属体的方法。制备具有原始厚度的金属材料锭,对该金属锭进行热锻压。对热锻压后的产品进行淬火,使金属材料的平均晶粒尺寸固定在小于250微米。淬火后的材料用于形成三维物理气相沉积靶。本发明还包括一种形成铸锭的方法。在一特定方面,该铸锭是高纯度铜材料。本发明还包括物理气相沉积靶和磁控管等离子溅射反应器组件。
申请公布号 CN1623007A 申请公布日期 2005.06.01
申请号 CN01823635.9 申请日期 2001.10.09
申请人 霍尼韦尔国际公司 发明人 C·T·吴;W·易;F·B·希登
分类号 C23C14/34;C22F1/00;C22F1/08;B22D7/00;B22D27/08;B21J5/02 主分类号 C23C14/34
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 章社杲
主权项 1.一种形成金属体的方法,包括:制备金属材料锭,所述金属锭具有大于250微米的原始晶粒尺寸和原始厚度;在大约700°F到大约1100°F的温度及足够的压力和时间等条件下对所述金属锭进行热锻压,使所述金属锭的厚度减少到原始厚度的大约10%到60%,所述热锻压使所述金属锭成为热锻压产品;对所述热锻压产品进行淬火,将所述金属材料的平均晶粒尺寸固定在小于250微米,淬火后的材料成为金属体;
地址 美国新泽西州