发明名称 |
溅射靶、溅射反应器、形成铸锭及形成金属体的方法 |
摘要 |
本发明包括一种形成金属体的方法。制备具有原始厚度的金属材料锭,对该金属锭进行热锻压。对热锻压后的产品进行淬火,使金属材料的平均晶粒尺寸固定在小于250微米。淬火后的材料用于形成三维物理气相沉积靶。本发明还包括一种形成铸锭的方法。在一特定方面,该铸锭是高纯度铜材料。本发明还包括物理气相沉积靶和磁控管等离子溅射反应器组件。 |
申请公布号 |
CN1623007A |
申请公布日期 |
2005.06.01 |
申请号 |
CN01823635.9 |
申请日期 |
2001.10.09 |
申请人 |
霍尼韦尔国际公司 |
发明人 |
C·T·吴;W·易;F·B·希登 |
分类号 |
C23C14/34;C22F1/00;C22F1/08;B22D7/00;B22D27/08;B21J5/02 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
章社杲 |
主权项 |
1.一种形成金属体的方法,包括:制备金属材料锭,所述金属锭具有大于250微米的原始晶粒尺寸和原始厚度;在大约700°F到大约1100°F的温度及足够的压力和时间等条件下对所述金属锭进行热锻压,使所述金属锭的厚度减少到原始厚度的大约10%到60%,所述热锻压使所述金属锭成为热锻压产品;对所述热锻压产品进行淬火,将所述金属材料的平均晶粒尺寸固定在小于250微米,淬火后的材料成为金属体; |
地址 |
美国新泽西州 |