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发明名称 ATOMIC LAYER DEPOSITION OF HIGH K METAL OXIDES
摘要
申请公布号 EP1535319(A2) 申请公布日期 2005.06.01
申请号 EP20030788580 申请日期 2003.08.18
申请人 AVIZA TECHNOLOGY, INC.;INTEGRATED PROCESS SYSTEMS 发明人 LEE, SANG-IN;SENZAKI, YOSHIHIDE;LEE, SANG-KYOO
分类号 H01L21/31;H01L27/04;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;H01L;H01L21/20;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/822;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
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