| 发明名称 | 基片组合设备和方法 | ||
| 摘要 | 基片组合设备和方法使用由于重力而导致的下降和由于压力差而导致的吸收。基片组合设备包括：真空室，其内部压力通过对闸阀的操作来控制；上基板，用于通过真空吸收将基片安装在真空室内部的顶部上；以及下基板，用于借助被施加给其上表面的密封材料将基片固定于真空室内部的底部。所述上基板包括基片下落装置，其使基片下降。 | ||
| 申请公布号 | CN1621922A | 申请公布日期 | 2005.06.01 |
| 申请号 | CN200410091653.1 | 申请日期 | 2004.11.24 |
| 申请人 | 爱德牌工程有限公司 | 发明人 | 许光虎;李在热;李宣必;崔浚泳;李荣钟 |
| 分类号 | G02F1/1339;G02F1/133 | 主分类号 | G02F1/1339 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王学强 |
| 主权项 | 1.一种基片组合设备，包括：真空室，在其中可形成真空；上和下基板，其被提供在真空室中，其每个都安装上或下基片；以及基片下落装置，用于使在上基板上安装的基片降下来。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||