投影光学光刻偏振成像系统

摘要

一种投影光学光刻偏振成像系统包括椭球镜、光源、高强度高均匀照明部件、投影光刻物镜及硅片等构成，其特征在于：在投影光刻物镜的物面位置，放置对成像光束可进行偏振调制的偏振掩模板，在偏振掩模板上不透光部位相邻的透光部位透过调制了不同偏振态的成像光束，它们的电场振动方向相互垂直交叉，而且电场振动方向对于光刻特征线条边缘来说，具有45°的倾斜角。由于偏振方向相互垂直的光不产生干涉效应，若使掩模上相邻特征线条透过偏振方向相互垂直的光，则相邻线条的像在硅片上不会产生次峰，故邻近效应小，可进一步提高分辨率，这样本发明既能提高成像对比度，又能减少邻近效应，而且可进一步挖掘短波长大数值孔径投影光学光刻成像系统的光刻分辨能力，较大地提高投影光学光刻成像光刻分辨力和大幅度增大焦深。

主权项

1、投影光学光刻偏振成像系统包括椭球镜(1)、光源(2)、高强度高均匀照明部件(3)、投影光刻物镜(5)及硅片(6)，其特征在于：在投影光刻物镜(5)的物面上放置了可对成像光束进行偏振调制的偏振掩模板(4)。