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发明名称
HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS FOR GENERATING UNIFORM THIN FILM
摘要
申请公布号
KR20050050209(A)
申请公布日期
2005.05.31
申请号
KR20030083905
申请日期
2003.11.25
申请人
JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
发明人
KANG, DAE BONG;LEE, JEONG BEOM;KIM, CHUL SIK
分类号
(IPC1-7):H01L21/203
主分类号
(IPC1-7):H01L21/203
代理机构
代理人
主权项
地址
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