PROCESS FOR THE PREPARATION OF SILICON WAFERS HAVING A CONTROLLED DISTRIBUTION OF OXYGEN PRECIPITATE NUCLEATION CENTERS,申请号KR20007002428-传众专利搜索

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发明名称	PROCESS FOR THE PREPARATION OF SILICON WAFERS HAVING A CONTROLLED DISTRIBUTION OF OXYGEN PRECIPITATE NUCLEATION CENTERS
摘要
申请公布号	KR100491823(B1)	申请公布日期	2005.05.27
申请号	KR20007002428	申请日期	2000.03.08
申请人		发明人
分类号	H01L21/322;(IPC1-7):H01L21/322	主分类号	H01L21/322
代理机构		代理人
主权项
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