| 发明名称 |
METHOD OF CLEANING SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING FILM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050049350(A) |
申请公布日期 |
2005.05.25 |
| 申请号 |
KR20040092234 |
申请日期 |
2004.11.12 |
| 申请人 |
ULVAC, INC. |
发明人 |
GONOHE, NARISHI;HARADA, MASAMICHI |
| 分类号 |
B08B7/00;C23C16/00;C23C16/02;C23C16/18;C23C16/34;H01L21/205;H01L21/285;H01L21/3205;H01L21/44;H01L21/768;H05H1/00;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
B08B7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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