发明名称 |
深亚微米CMOS沟道及源漏制造技术中的工艺集成方法 |
摘要 |
本发明涉及一种集成电路深亚微米沟道及源漏制造技术中的工艺集成方法。0.15μ至0.18μCMOS制造工艺采用LDD NMOS器件结构和“仅有重掺杂源漏”的PMOS器件结构。在NMOS和PMOS器件边墙工艺完成之后,对两种器件同时进行N型杂质的倾斜角度的离子注入,N型杂质在PMOS晶体管沟道两侧的引入N-HALO能改进PMOS器件短沟道特性。“仅有重掺杂源漏”的PMOS结构使NMOS器件在完成源漏结构后可使用RTP高温退火,以保证NMOS晶体管栅耗尽特性,本发明方法使用了简捷的工艺步骤和PMOS器件架沟,可有效提高NMOS和PMOS晶体管的特性。 |
申请公布号 |
CN1203541C |
申请公布日期 |
2005.05.25 |
申请号 |
CN02112153.2 |
申请日期 |
2002.06.20 |
申请人 |
上海华虹(集团)有限公司 |
发明人 |
王炜 |
分类号 |
H01L21/8234;H01L21/8238 |
主分类号 |
H01L21/8234 |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 |
代理人 |
陶金龙;陆飞 |
主权项 |
1、一种集成电路深亚微米CMOS沟道及源漏制造技术中的工艺集成方法,其特征在于:在NMOS和PMOS晶体管多晶图形定义完成之后,在“仅有重掺杂源漏结构”的PMOS晶体管边墙形成以前,在PMOS多晶两侧引入N型杂质,这一N型杂质的引入同时完成NMOS轻掺杂源漏离子注入1,在此基础上,对PMOS晶体管进行光刻胶掩蔽,并完成NMOS轻掺杂源漏离子注入2;然后对整个晶片进行P型杂质的离子注入,再形成晶体管边墙;随后对晶片进行N型杂质的离子注入,以形成NMOS晶体管高掺杂漏源区;最后用快速退火的方法对晶片进行退火,退火温度为1000至1100摄氏度,退火时间为10秒至60秒,以保证PMOS晶体管的栅耗尽特性能满足要求。 |
地址 |
200020上海市淮海中路918号18楼 |