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发明名称
CLEANING AND DRY METHOD FOR WAFER
摘要
申请公布号
KR20050049246(A)
申请公布日期
2005.05.25
申请号
KR20030083160
申请日期
2003.11.21
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
HAH, SANG ROK;HONG, UK SUN;SON, HONG SEONG
分类号
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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