发明名称 低紫外吸收多孔和无孔高硅氧玻璃的制备方法
摘要 一种低紫外吸收多孔和无孔高硅氧玻璃的制备方法,该方法的要点是添加氧化剂、两次熔融法、重复酸处理以制备出低过渡金属离子含量的多孔高硅氧玻璃,再、还原烧结,制备出低紫外吸收的无孔高硅氧玻璃。本发明方法制备的玻璃熔融温度不高,生产成本低,可以制备成块状、管状、棒状和纤维等多种形状,以适应各种应用的需要,并具有高光学质量、热光稳定性和物理化学特性好,紫外吸收低等特点。
申请公布号 CN1618759A 申请公布日期 2005.05.25
申请号 CN200410067899.5 申请日期 2004.11.05
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 陈丹平
分类号 C03C4/08;C03C3/091;C03C3/087;C03C11/00 主分类号 C03C4/08
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1、一种低紫外吸收多孔和无孔高硅氧玻璃的制备方法,其特征在于该方法的要点是添加氧化剂、两次熔融法、再加上重复酸处理制备出低过渡金属离子含量的多孔高硅氧玻璃,再配合还原烧结制备出低紫外吸收的无孔高硅氧玻璃。
地址 201800上海市800-211邮政信箱