发明名称 |
低紫外吸收多孔和无孔高硅氧玻璃的制备方法 |
摘要 |
一种低紫外吸收多孔和无孔高硅氧玻璃的制备方法,该方法的要点是添加氧化剂、两次熔融法、重复酸处理以制备出低过渡金属离子含量的多孔高硅氧玻璃,再、还原烧结,制备出低紫外吸收的无孔高硅氧玻璃。本发明方法制备的玻璃熔融温度不高,生产成本低,可以制备成块状、管状、棒状和纤维等多种形状,以适应各种应用的需要,并具有高光学质量、热光稳定性和物理化学特性好,紫外吸收低等特点。 |
申请公布号 |
CN1618759A |
申请公布日期 |
2005.05.25 |
申请号 |
CN200410067899.5 |
申请日期 |
2004.11.05 |
申请人 |
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
发明人 |
陈丹平 |
分类号 |
C03C4/08;C03C3/091;C03C3/087;C03C11/00 |
主分类号 |
C03C4/08 |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 |
代理人 |
张泽纯 |
主权项 |
1、一种低紫外吸收多孔和无孔高硅氧玻璃的制备方法,其特征在于该方法的要点是添加氧化剂、两次熔融法、再加上重复酸处理制备出低过渡金属离子含量的多孔高硅氧玻璃,再配合还原烧结制备出低紫外吸收的无孔高硅氧玻璃。 |
地址 |
201800上海市800-211邮政信箱 |