| 发明名称 | 处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明是提供与以往的利用被激活的氧的处理不同的、抑制了对被处理物的氧化影响的处理装置。其目的在于提供一种利用真空紫外光的处理装置，该处理装置能够实现在使用被激活的氧进行的处理中无法得到充分的处理速度的处理，例如注入离子的抗蚀剂的灰 化/除去等。该处理装置，具备放射真空紫外光的光源、和具备该光源的放电容器及/或处理空间，并配置有导入气体的导入口，通过照射光激活该被导入的气体，其特征在于，该被激活性的气体是N<SUB>m</SUB>H<SUB>n</SUB>，其中，N为氮原子、H为氢原子、m、n为任意的自然数；具备将自上述光源放射的真空紫外光照射于该N<SUB>m</SUB>H<SUB>n</SUB>气体的机构。 | ||
| 申请公布号 | CN1619780A | 申请公布日期 | 2005.05.25 |
| 申请号 | CN200410094959.2 | 申请日期 | 2004.11.19 |
| 申请人 | 优志旺电机株式会社 | 发明人 | 松野博光;菱沼宣是;菅原宽 |
| 分类号 | H01L21/304;H01L21/302;H01L21/3065;C23C16/48;C23C8/06 | 主分类号 | H01L21/304 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 胡建新 |
| 主权项 | 1、一种处理装置，具备放射真空紫外光的光源、和具备该光源的放电容器及/或处理空间，并配置有导入气体的导入口，通过照射光激活该被导入的气体，其特征在于，该被激活性的气体是NmHn，其中，N为氮原子、H为氢原子、m、n为任意的自然数；具备将自上述光源放射的真空紫外光照射于该NmHn气体的机构。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||