| 发明名称 | 多层超微压印平版印刷 | ||
| 摘要 | 公开了一种用于超微压印平版印刷、更具体地用于在基片上提供纳米尺寸图形的改进方法。根据这种改进，提供了模型(100)和基片(115)，其中，在将模型(100)和基片(115)压在一起而将图形从模型(100)转移到基片(115)以前，为基片(115)提供了很多涂层(120、125、130)。根据本发明，为所述基片提供了具有完全的防粘作用的最上层(130)。 | ||
| 申请公布号 | CN1619417A | 申请公布日期 | 2005.05.25 |
| 申请号 | CN200410095336.7 | 申请日期 | 2004.11.19 |
| 申请人 | 奥博杜卡特股份公司 | 发明人 | 巴巴克·海达里;马克·贝克 |
| 分类号 | G03F7/00;G03F7/16;B82B3/00 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 郭建新 |
| 主权项 | 1.一种在基片(115)上提供结构化纳米尺寸图形的超微压印平版印刷方法，它通过将模型(100)和基片(115)压在一起而将反转图形从所述模型转移到所述基片上，所述基片被涂布了很多涂层，包括压印耐蚀膜层(125)，所述方法的特征在于，它包括这一步骤：-在压模以前在基片的上面提供具有完全的防粘作用的最上面的涂层(130)。 | ||
| 地址 | 瑞典马尔默 | ||