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发明名称 HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS
摘要
申请公布号 KR20050048131(A) 申请公布日期 2005.05.24
申请号 KR20030081980 申请日期 2003.11.19
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 YOON, YANG HAN
分类号 H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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